校正用ターゲットおよびミクロメータ

Microscope Slides & Reticles for Imaging System Calibration
Soda Lime or UV Fused Silica Substrates with Chrome Plating

R1L3S1P

Stage Micrometer
with 50 µm Divisions

R3L3S3P

Concentric Squares Target,
0.1 mm to 50 mm

R2L2S3P1

Grid Distortion Target,
125 µm Grid Spacing

R1L3S12N

Ronchi Ruling Target,
10 lp/mm Pattern

R3L3S5P

Concentric Circles and Crosshairs Grid Target

R1DS2P

Concentric Circles Reticle

Related Items

Fluorescent Calibration Slides

Slide and Target Holders

High-Speed Microscopy Stage

Objective and Scan Lenses

Annular Aperture Obstruction Targets

Scientific-Grade Cameras

Imaging Systems Overview

Please Wait

概要
グラフ
カスタム向け
クリーニング
Feedback

General Specifications
Optic Type	Slides & Targets	Reticles^a
Chrome Thickness	0.120 µm
Chrome Optical Density	OD ≥3 at 430 nm
Substrate Thickness	0.06" (1.5 mm)
Surface Flatness	≤15 µm	N/A
Surface Quality	N/A	60-40 S-D
Transmitted Wavefront Error	N/A	< λ at 633 nm
Line Spacing Tolerance^b	±1 µm	N/A
Line Width Tolerance^b	±0.5 µm	N/A
Diameter Tolerance	N/A	+0.0/-0.1 mm
Substrate	Soda Lime Glass	UV Fused Silica^c

レチクルについて詳細はこちらの製品紹介ページをご覧ください。
この公差はこれらのミクロメータやターゲットを製造する際に用いられるマスクに対して適用される値であり、個々のターゲットごとにわずかに異なる可能性があります。
リンクをクリックすると基板の仕様がご覧になれます。

Click to Enlarge
テストターゲットポジショナXYF1(/M)に取り付けられたR3L3S3P

校正用ターゲット種類

水平方向に10 µm～100 µmの目盛が付いた顕微鏡用対物ミクロメータ(ステージミクロメータ) (25.4 mm x 25.4 mmまたは76.2 mm x 25.4 mm)
同心正方形ターゲット、0.1 mm～50 mmのポジパターン (76.2 mm x 76.2 mm)
単一周波数ロンキールーリングターゲット (76.2 mm x 24.5 mm)
同心円ならびに十字線グリッド型ターゲット (76.2 mm x 76.2 mm)
分解能ならびに歪み測定一体型ターゲット (18 mm x 18 mm)
グリッド歪みターゲット (38.1 mm x 38.1 mmまたは76.2 mm x 25.4 mm)
分解能ならびに歪み測定一体型ターゲット (76.2 mm　x 25.4 mm)
同心円＆十字線レチクル (Ø19.0 mm、Ø21.0 mm、またはØ25.4 mm(Ø1インチ))

当社ではイメージングシステムの校正用に、対物ミクロメータ(ステージミクロメータ)、同心円＆正方形、歪みターゲットやレチクル等の校正用ターゲットをご用意しています。正方形や長方形のターゲットやミクロメータは、ソーダライムガラス基板と真空スパッタリングされた低反射クロム、レチクルはUV溶融石英(UVFS)基板に高反射クロムパターンとなっております。それぞれのパターンはフォトリソグラフィにより加工されているため、エッジ部も約1 µmの精度で形成されています。

取付例
長方形の校正用ターゲットおよびミクロメータは、一般的な固定式のスライドホルダ、顕微鏡用スライドホルダ、顕微鏡用ステージなど当社の多くの顕微鏡用スライドホルダに取り付け可能です。当社ではレチクル取付け用の固定式光学マウントもご用意しています。

Targets Selection Guide
Resolution Test Targets	Calibration Targets	Distortion Test Targets	Slant Edge MTF Target	Stage Micrometers

Click to Enlarge
ソーダライムガラスの透過率

Click to Enlarge
反射型テストターゲットのスペクトル曲線
可視域における反射型テストターゲットのスペクトル曲線コーティング無し(青線)と、反射防止付きクロム(赤線)の大きな差により、反射型のポジターゲットのパターンと背景のコントラストが高いことを意味しています。

Click to Enlarge
透過率曲線は、厚さ1.0 mmのUV溶融石英基板を用い、垂直入射で測定されています。こちらのページでご紹介しているレチクルは厚みが1.5 mmあるため、透過率はこのグラフより若干低くなります。

Questions?

Need a Quote?

ご質問やお見積りのご要望は
お気軽に当社まで
ご連絡ください。

Customization Parameters
Substrate Size^a	Min	8 mm x 8 mm (5/16" x 5/16")
Substrate Size^a	Max	85 mm x 85 mm (3.35" x 3.35")
Substrate Materials		Soda Lime Glass UV Fused Silica Quartz
Coating Material		Chrome^b Low-Reflectivity Chrome^c
Coating Optical Density		≥3^d or ≥6^e @ 430 nm
Minimum Pinhole/Spot		Ø1 µm
Minimum Line Width		1 µm
Line Width Tolerance		-0.25 / +0.50 µm
Maximum Line Density		500 lp/mm

基板はご要望のサイズや形状にダイシングが可能です(上記MIN～MAXの範囲内)。
430 nmでのクロムの反射率 > 40%
430 nmでの低反射クロムの反射率 < 10%
UV溶融石英(UVFS)基板と標準的なソーダ石灰ガラス基板の光学濃度(OD)は430 nmで3以上
石英基板と一部のソーダ石灰ガラス基板の光学濃度(OD)は430 nmで6以上

カスタムおよび組み込み用途(OEM用途)向けテストターゲットとレチクル

当社のフォトリソグラフィ設計と製造能力により、様々なパターン素子を作ることが可能です。米国サウスカロライナ州コロンビアにある当社の施設では、テストターゲット、グリッド型歪テストターゲット、レチクルを製造しております。これらは顕微鏡、イメージングシステム、光学アライメントのセットアップなど様々な用途に適用されてきました。

標準品のテストターゲットやレチクルに加え、ソーダ石灰基板、UV溶融石英(UVFS)基板、石英基板から8 mm x 8 mm～85 mm x 85 mmまでのカスタムクロムパターンのテストターゲット等をご提供可能です。基板はご用途に応じた形状に切断可能です。フォトリソグラフィによるコーティングプロセスにより、1 µmまでのクロムパターンが可能です。下ではサンプルパターンがご覧いただけます。またこの下の例のようにポジパターンとネガパターンで作成可能です。

カスタム仕様のテストターゲットやレチクルのお見積りについては、当社までお問い合わせください。

サンプルパターン

用途例

エッチングレチクル
グレースケールマスク
高分解能レチクル
測定用レチクル
レクリエーション用スコープ
ノッチ付きレチクル
アイピース目盛
照明用十字レチクル
オブストラクションターゲット
双眼鏡レチクル

Click to Enlarge
ポジパターンとネガパターンの十字ターゲット

こちらでは当社のエンジニアが推奨するレチクル、テストターゲット、歪みターゲット、校正ターゲットの適切なクリーニング方法をご紹介いたします。

クリーニング手順

できればポリビニルアルコール(PVA)製の清潔な濡れスポンジを使用し、食器用洗剤でレチクルやターゲットの正面と裏面を優しくこすります。
水ですすぎます。
清潔で乾燥した空気によるブローで乾かすか、清潔な面にレチクルやターゲットを置いて自然乾燥させます。

タオルや布、またはワイプを使用して拭くことはお勧めしません。汚れがまだ残る場合には、レチクルやターゲットを食器洗剤を混ぜた水溶液に1時間付け置き、必要であればこれを繰り返します。

Posted Comments:
No Comments Posted

ステージミクロメータ、25.4 mm x 25.4 mm

ズーム

Click to Enlarge
十字線付き水平スケールR1L1S5Pの拡大図

25.4 mm x 25.4 mmのステージミクロメータ
接眼レンズ用レチクルまたは対物レンズの倍率を校正
R1L1S5P:100 µm刻みで十字線の付いた水平スケール

こちらのターゲットには、それぞれ100 µm刻みのミクロメーターパターン、ならびに1 mmごとの数字ラベルが刻印されています。パターンには、長さ20 mmの水平方向のスケールならびに直角に交わる十字線が付いています。どちらのターゲットも、25.4 mm x 25.4 mmのソーダライムガラス基板に真空スパッタリングで低反射のクロム層を形成して作られています。これらのポジティブターゲットは、イメージングシステム内の距離を校正する際に便利です。

ステージミクロメータ、76.2 mm x 25.4 mm

ズーム

Click to Enlarge
ステージ用ミクロメータR1L3S1Pの顕微鏡画像

接眼レンズ用レチクルまたは対物レンズの倍率を校正
R1L3S1P：50 μm刻みで10 mmのスケール
R1L3S2P：10 μm刻みで1 mmのスケール
76.2 mm x 25.4 mm顕微鏡スライドガラスの中心部にスケール

これらのターゲットには、ステージ用ミクロメーターパターンが刻印されています。ミクロメータR1L3S1Pには50 µm刻みで1 mmごとに数字ラベルが刻印された長さ10 mmのスケールが、R1L3S2Pには10 µm刻みで0.1 mmごとに数字ラベルが刻印された長さ1 mmのスケールが付いています。どちらのターゲットも、76.2 mm x 25.4 mmのソーダライムガラス基板に真空スパッタリングで低反射のクロム層を形成して作られています。これらのポジティブターゲットは、イメージングシステム内の距離を校正する際に便利です。

Click to Enlarge
R1L3S1Pの拡大図

Click to Enlarge
R1L3S2Pの拡大図

同心正方形、76.2 mm x 76.2 mm

ズーム

Click to Enlarge
R3L3S3Pの同心正方形パターン

Click to Enlarge
同心正方形ターゲットR3L3S3P上の幅15 mm以下の正方形を拡大

76.2 mm x 76.2 mmの同心正方形ターゲット
イメージングソフトウェアによる測定値の校正
低反射の真空スパッタリングクロムめっき

同心正方形ターゲットR3L3S3Pには、長さおよび幅が0.1 mm～50 mmの14種類の同心正方形が描かれています(下表参照)。ターゲット上にはそれぞれの正方形の幅が明記されています。このテストターゲットは、ソーダライムガラス基板に真空スパッタリングで低反射のクロム層を形成して作られています。これらのポジティブターゲットは、イメージングシステム内の距離を校正する際に便利です。

Widths of Positive Squares (mm)

	• 0.1	• 0.5	• 2	• 4	• 10	• 20	• 40
	• 0.25	• 1	• 3	• 5	• 15	• 30	• 50

単一周波数ロンキールーリングターゲット、76.2 mm x 24.5 mm

ズーム

Click to Enlarge
R1L3S14Nのロンキールーリングパターンの拡大図

Optical Specifications
Pattern	LR^a Chrome
Background	Clear
Chrome Optical Density^b	≥3.0

低反射(Low-Reflectivity)
430 nmにおける仕様値

76.2 mm x 25.4 mmの矩形波ロンキールーリングターゲット
10 lp/mm、20 lp/mm、40 lp/mm、80 lp/mmのパターンをご用意
65 mm x 17 mmの大きな有効エリア
光学システムの分解能、視界歪み、同焦点安定性を評価
ソーダライムガラス基板上に低反射のクロムを真空スパッタリング
スライドホルダMLS203P2を使用して顕微鏡ステージMLS203に取り付け可能

当社では分解能が10 lp/mm～80 lp/mm(白と黒のラインペア)の4種類のロンキールーリングターゲットをご用意しております。縦格子と空白が等間隔に配置された矩形波のパターンは、76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mmのソーダライムガラス基板上に黒色の低反射クロムパターンを蒸着して製造されています。有効エリアが65 mm x 17 mmと大きいため、バックライトや高照度の用途に適しています。ガラス基板の寸法は標準的な顕微鏡スライドと同じです。ロンキールーリングは、光学システムの分解能、視野歪み、ならびに同焦点安定性の評価に適しています。

同心円ならびに十字線グリッド型ターゲット、76.2 mm x 76.2 mm

ズーム

Click to Enlarge
ターゲットR3L3S5P上の最小グリッドを拡大(ラベル付き、下表参照)

Click to Enlarge
ターゲットR3L3S5P全体のドットパターン拡大図

Optical Specifications
Pattern	LR^a Chrome
Background	Clear
Surface Flatness	≤15 µm
Chrome Optical Density^b	≥3.0

低反射(Low-Reflectivity)
430 nmにおける仕様

グリッド内に同心円と十字線を配置
それぞれサイズの異なる4つの同心円と5つの十字線
イメージングシステムの分解能、歪み、倍率を測定
76.2 mm x 76.2 mmのソーダライムガラス基板

この76.2 mm x 76.2 mmの同心円ならびに十字線グリッド型ターゲットは、289の小さなグリッドで構成され、全体では17行x17列、50.8 mm x 50.8 mmの大きさのグリッドを形成しています。 1つ1つの小さなグリッドには、サイズの異なる4つの同心円と5つの十字線が配置されています。右の写真では、この小さなグリッド内の同心円と十字線のパターンにラベルが付いていますが、製品自体には付いていません。それぞれの同心円パターンは7種類の異なる半径を有し、それぞれの十字線は1重または2重で描かれています。パターンの寸法についての詳細は下の表をご覧ください。

ターゲット上のパターンは、厚さ1.5 mmのソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきを蒸着して作られており、光学濃度は430 nmで3以上となっています。黒で描かれたパターンと透明な基板は、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。

Concentric Circles
Circle Pattern^a	R₁	R₂	R₃	R₄	R₅	R₆	R₇
A1	31.3 µm	62.5 µm	125 µm	140.6 µm	234.4 µm	242.2 µm	500 µm
A2	15.6 µm	31.3 µm	62.5 µm	70.3 µm	117.2 µm	121.1 µm	250 µm
A3	7.8 µm	15.6 µm	31.3 µm	35.2 µm	58.6 µm	60.5 µm	125 µm
A4	3.9 µm	7.8 µm	15.6 µm	17.6 µm	29.3 µm	30.3 µm	62.5 µm

右上の写真に表示

Crosshairs
Crosshair Pattern^a	Single or Double Line	Length/Width	Line Width^b
B1	Double	500 µm	6.25 µm
B2	Double	500 µm	12.5 µm
B3	Single	500 µm	50 µm
B4	Double	500 µm	25 µm
B5	Double	500 µm	100 µm

右上の写真に表示
線幅は線と線との間隔を意味します。

分解能ならびに歪み測定一体型ターゲット、18 mm x 18 mm

ズーム

Click to Enlarge
ネガテストターゲットR1S1L1Nの顕微鏡画像

Optical Specifications
Item #	R1L1S1P	R1L1S1N
Pattern	LR^a Chrome	Clear
Background	Clear	LR^a Chrome
Chrome Optical Density^b	≥3.0

低反射(Low-Reflectivity)
430 nmにおける仕様

光学システムの分解能(解像度)を測定
画像の歪み、非点収差ほかの収差を測定
18 mm x 18 mm、厚さ1.5 mmのソーダライムガラス基板
USAF 1951パターン、セクタースター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリング付き
ポジまたはネガパターンでご用意

当社の18 mm x 18 mm x 1.5 mmの分解能と歪み測定が一体型になったポジまたはネガテストターゲットは、ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきが施されており、光学濃度(OD)は430 nmで3以上となっております。イメージングシステムや顕微鏡システムの校正用途に適しています。

テストターゲットにはUSAF 1951パターン(グループ2～7)、セクタースター、同心円、グリッド(100 µm、50 µm、10 µm)、そしてロンキールーリング(30～150 lp/mm)が描かれています。分解能、視野歪み、焦点誤差、ならびに非点収差のテストに便利です。 USAF 1951ターゲットは、イメージングシステムの分解能の測定にお使いいただけます。グリッドは画像の歪み測定、そして同心円はイメージングシステムの焦点誤差、非点収差ほか収差の特定にご使用になれます。ロンキールーリングは、分解能、視野歪み、ならびに同焦点安定性の評価に適しています。詳細については、分解能ターゲットのページをご参照ください。

こちらの分解能ターゲットはポジならびにネガパターンでご用意しております。ポジターゲットR1L1S1Pは、低反射のクロムパターンが透明な基板にめっき加工されており、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。また、ネガターゲットR1L1S1Nの基板にも同様の低反射クロムコーティングが施されており、パターンは透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。

Target Feature	Details	Target Feature	Details
1951 USAF Target	Groups 2 - 7	Concentric Circles	10 Circles with Radii from 100 µm to 1000 µm in 100 µm Intervals, Labeled 1 to 10
Grids	20 x 20 Arrays with 100 µm, 50 µm, and 10 µm Pitch	Ronchi Rulings	13 Rulings from 30 lp/mm^a to 150 lp/mm in 10 lp/mm Intervals
Sector Star	36 Bars through 360°, 10 µm Radius Center Circle, and Ten Concentric Circles with Radii from 50 µm to 500 µm in 50 µm Intervals

1ミリメートル毎のラインペア数です。

固定周波数グリッド型歪みターゲット、38.1 mm x 38.1 mm

ズーム

Click to Enlarge
カスタム仕様のイメージングシステム用フィルターマウントFFM1、およびキューブベースB3C(/M)を用いてポストに取り付けたターゲットR2L2S3P3

Click to Enlarge
ターゲットR2L2S3P4のドットパターン拡大図

38.1 mm x 38.1 mmのソーダライムガラス基板上に1種類グリッドアレイ
125 µm、250 µm、500 µm、1000 µmのグリッド間隔
Ø62.5 µm、Ø125 µm、Ø250 µm、Ø500 µmのドットサイズ
マシンビジョンにおけるステージの校正や歪み検出の用途に使用

この歪み検出グリッドアレイには、ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきを蒸着して作られたドットが25.0 mm x 25.0 mmのグリッド状に配置されています。 1つのドットの中心からそれに隣接するドットの中心までのグリッド間隔125 µm～1000 µm、ドット直径62.5 µm～500 µmをご用意しております。

グリッドアレイは、イメージングシステムの歪みを確認するために使用します。ドットの水平、および垂直の行と列が互いに直交しているのが理想的な状態です。歪んだ画像のラインは弓形となります。この画像は歪みを補正するために使用されます。

Item #	Spacing^a	Spacing Tolerance	Dot Size	Dot Size Tolerance	Pattern	Background	Pattern Size^b	Pattern Size Tolerance	Pattern Optical Density	Substrate Size
R2L2S3P1	125 µm	±1 µm	Ø62.5 µm	±2 µm	Low-Reflectivity Chrome	Clear	25.0 mm x 25.0 mm (0.98" x 0.98")	±4 µm	OD ≥3.0 at 430 nm	1.5" x 1.5" x 0.06" (38.1 mm x 38.1 mm x 1.5 mm)
R2L2S3P2	250 µm		Ø125 µm				25.0 mm x 25.0 mm (0.98" x 0.98")
R2L2S3P3	500 µm		Ø250 µm				25.4 mm x 25.4 mm (1" x 1")
R2L2S3P4	1000 µm		Ø500 µm				25.4 mm x 25.4 mm (1" x 1")

1つのドットの中心からそれに隣接するドットの中心までの距離
グリッドアレイの隅から隅までの距離

マルチ周波数グリッド型歪みターゲット、76.2 mm x 25.4 mm

ズーム

Click to Enlarge
R1L3S3Pの4種類のグリッドパターンの拡大図

Optical Specifications
Item #	R1L3S3P	R1L3S3PR
Pattern	LR^a Chrome	LR^a Chrome
Background	Clear	Chrome
Chrome Optical Density^a	≥3.0	-
Reflectance^b	-	LR^a Chrome: <10% Chrome: >40%

低反射(Low-Reflectivity)
430 nmにおける仕様値

76.2 mm x 25.4 mmのソーダライムガラススライド上に4つのグリッドアレイ
グリッド間隔: 10 µm、50 µm、100 µm、500 µm
ステージの校正や歪み検出の顕微鏡法の用途に使用
標準的な顕微鏡スライドと同じ外寸
コントラストの高い反射型のポジターゲットもご用意

こちらのグリッド型歪みターゲットは、10 µm、50 µm、100 µm、500 µmの4種類の間隔の水平と垂直のラインのアレイが特長となっております。このグリッドパターンでは、低反射クロムが真空スパッタリングにより76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mmのソーダライムガラス基板に蒸着されています。ガラス基板の寸法は標準的な顕微鏡スライドと同じです。

当社ではソーダライムガラス上に低反射クロムパターンがエッチングされたターゲット2種類ご用意しております。ポジターゲットR1L3S3Pのソーダライムガラス基板の背景は透明で、フロントライトや一般的な用途向けです。反射型のポジターゲットR1L3S3PRの背景はクロム上にARコーティング施していない背景のため、コントラストが高く、反射用途向きです。詳細は「グラフ」タブをご覧ください。

グリッドアレイは、イメージングシステムの歪みを確認するために使用します。グリッドの水平ラインと垂直ラインが直交しているのが適切な状態です。歪んだ画像のラインは弓状になります。この場合、画像は歪み補正のために使用できます。

分解能ならびに歪み測定一体型テストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm

ズーム

Frequencies of NBS 1963A (cycles/mm)

• 4.5	• 10	• 23	• 51	• 114
• 5	• 11	• 25	• 57	• 128
• 5.6	• 12.5	• 29	• 64	• 144
• 6.3	• 14	• 32	• 72	• 161
• 7.1	• 16	• 36	• 81	• 181
• 8	• 18	• 40	• 91	• 203
• 9	• 20	• 45	• 102	• 228

Click to Enlarge
R1L3S5Pの拡大図

Optical Specifications
Pattern	LR^a Chrome
Background	Clear
Surface Flatness	≤15 µm
Chrome Optical Density^b	≥3.0

低反射(Low-Reflectivity)
430 nmにおける仕様

76.2 mm x 25.4 mmターゲット
NBS 1963Aパターン、セクタースター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリングほか付き(下の表をご覧ください)
光学システムの分解能を測定
画像の歪み、非点収差ほかの収差を測定
スライドホルダMLS203P2を使用して当社の顕微鏡ステージMLS203に取付け可能

当社の76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mmの分解能と歪み測定が一体型になったポジテストターゲットは、ソーダライムガラス基板上に低反射で真空スパッタリングされたクロムめっきが施されており、光学濃度(OD)は430 nmで3以上となっております。イメージングシステムや顕微鏡システムの校正用途に適しています。当社のスライドホルダMLS203P2に取付けて、顕微鏡ステージMLS203で使用できる寸法設計となっております。

テストターゲットにはNBS 1963Aパターン、セクター(Siemens)スター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリングほかが描かれています(下の表をご覧ください)。分解能、視野歪み、焦点誤差、ならびに非点収差のテストに便利です。 NBS 1963A、セクタースター、ならびに同心円はイメージングの分解能の測定にお使いいただけます。詳細については、上の「分解能テストターゲット」タブ内をご参照ください。グリッドは、イメージングシステムによる歪みを測定できます。ロンキールーリングは、分解能、視野歪み、ならびに同焦点安定性の評価に適しています。

Target Feature	Details	Target Feature	Details
NBS 1963A	Frequencies from 4.5 cycles/mm to 228 cycles/mm (See List Above)	Concentric Circles	10 Circles with Radii from 100 µm to 1000 µm in 100 µm Intervals
Distortion Grid (Squares)	3 Grids: 100 lp/mm^a, 150 lp/mm, 200 lp/mm	Fixed Ronchi Rulings	3 Rulings:100 lp/mm, 150 lp/mm, and 200 lp/mm
Distortion Grid (Dots)	3 Grids: 400 µm Pitch of Ø80 µm Dots, 200 µm Pitch of Ø 40 µm Dots, 100 µm Pitch of Ø20 µm Dots	Variable Ronchi Rulings	20 Rulings (Each 1 mm x 1 mm): 10 lp/mm to 200 lp/mm in 10 lp/mm Intervals
Two-Point Resolution Dots	Ø25 µm, Ø20 µm, Ø15 µm, Ø12.5 µm, Ø10 µm, Ø7.5 µm, and Ø5 µm	Pinholes	Ø25 µm, Ø20 µm, Ø15 µm, Ø12.5 µm, Ø10 µm, Ø7.5 µm, and Ø5 µm
Interdigitated Lines	6.25 lp/mm, 12.5 lp/mm, 25 lp/mm, 50 lp/mm, 100 lp/mm, and 200 lp/mm	Three Micrometers	1 mm x 1 mm XY Scale with 50 µm Divisions 1 mm Scale with 10 µm Divisions 10 mm Scale with 50 µm Divisions
Sector Star	36 Bars through 360°, 50 µm Radius Center Circle, and Ten Concentric Circles with Radii from 100 µm to 500 µm in 50 µm Intervals

lp/mmは、1ミリメートル毎のラインペア数です。

同心円＆十字線レチクル

ズーム

Click for Details
番号付き同心円のパターン(型番R19DS13P)

Click to Enlarge
取付アダプタAD19Tに取り付けられたR19DS13P

十字線上にある同心円
円の間隔：0.5 mm、1 mmまたは5 mm
ポジティブパターンは、Ø19.0 mm、Ø21.0 mm、Ø25.4 mm(Ø1インチ)から選択可能
ネガティブパターンはØ25.4 mm(Ø1インチ)でご用意

同心円レチクルは、十字線付きで、同心円は0.5 mm、1 mm、5 mm間隔で構成されています。円は1 mmごと(ピッチが0.5 mmおよび1 mmの円)または5 mmごと(ピッチが5 mmの円)に番号が割り振られています。パターンは幅10 µmの線(ピッチが0.5 mmおよび1 mmの円)または幅250 µmの線(ピッチが5 mmの円)で形成されています。厚さ1.5 mmのUV溶融石英基板の片面にはクロムめっきが施されています。UV溶融石英基板の透過率は200～1200 nmの波長範囲において90%以上です。

Ø19.0 mmのレチクルは、取付アダプタAD19TまたはSM1AD19に挿入することでØ25.4 mm(Ø1インチ)のマウントに取り付け可能です。AD19Tにはネジ切り加工がないので、標準のØ25.4 mm(Ø1インチ)マウントに取り付け可能です。一方、SM1AD19にはSM1の外径ネジ切り加工(1.035"-40)があるので、SM1シリーズのネジ付きオプトメカニクス部品に適用できます。

+1 数量資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日

R19DS13P Customer Inspired! Positive Concentric Circles & Crosshair Reticle, Ø19.0 mm, 1 mm Pitch, 10 µm Thick Lines, 10 Circles, UVFS

￥10,294

Today

R21DS7P Customer Inspired! Positive Concentric Circles & Crosshair Reticle, Ø21.0 mm, 1 mm Pitch, 10 µm Thick Lines, 10 Circles, UVFS

￥10,294

7-10 Days

R1DS2P2 Positive Concentric Circles & Crosshair Reticle, Ø1", 0.5 mm Pitch, 10 µm Thick Lines, 20 Circles, UVFS

￥10,294

7-10 Days

R1DS2P Customer Inspired! Positive Concentric Circles & Crosshair Reticle, Ø1", 1 mm Pitch, 10 µm Thick Lines, 10 Circles, UVFS

￥10,294

Today

R1DS2P1 Positive Concentric Circles & Crosshair Reticle, Ø1", 5 mm Pitch, 250 µm Thick Lines, 4 Circles, UVFS

￥10,294

7-10 Days

R1DS2N2 Negative Concentric Circles & Crosshair Reticle, Ø1", 0.5 mm Pitch, 10 µm Thick Lines, 20 Circles, UVFS

￥10,294

7-10 Days

R1DS2N Customer Inspired! Negative Concentric Circles & Crosshair Reticle, Ø1", 1 mm Pitch, 10 µm Thick Lines, 10 Circles, UVFS

￥10,294

Today

R1DS2N1 Negative Concentric Circles & Crosshair Reticle, Ø1", 5 mm Pitch, 250 µm Thick Lines, 4 Circles, UVFS

￥10,294

7-10 Days

十字線レチクル、目盛付き

ズーム

Click for Details
目盛付き十字線のパターン

エッジ部分まで伸びた目盛付きの十字線
目盛間隔：
- 中心から1 mmまで：10 µm目盛
- 中心から12 mmまで：100 µmと1 mm目盛
直径25.4 mmのレチクルはポジティブおよびネガティブ型をご用意

目盛付きの十字線レチクルは、イメージング対象物に基準パターンを重ねてご使用いただけます。十字線はレチクルの直径まで伸びており、中心から12 mmまでは目盛も付いています。1種類目の目盛は幅2 µmで、中心から1 mmまで10 µm間隔で付いています(この半径内の十字線も幅2 µmです)。2種類目の目盛は幅10 µmで、中心から1 mmの位置から12 mmまで100 µm間隔で付いています(中心から1 mmの位置から端までの十字線も幅10 µmです)。厚さ1.5 mmのUV溶融石英基板の片面にはクロムめっきが施されています。UV溶融石英基板の透過率は200～1200 nmの波長範囲において90%以上です。

十字線レチクル

ズーム

Click to Enlarge
十字パターン

Click to Enlarge
取付けアダプタSM1AD19に取り付けられたR19DS11P

エッジ部分まで伸びた十字線
ポジティブ型の十字線レチクルは、Ø19.0 mm、Ø21.0 mm、Ø25.4 mm(Ø1インチ)から選択可能
Ø25.4 mm(Ø1インチ)のネガティブ型の十字線レチクルもご用意
幅10 µmまたは25 µmの十字線

当社の十字線レチクルは、イメージング対象物に基準パターンを重ねてご使用いただけます。幅25 µmまたは10 µm(Ø25.4 mm(Ø1インチ)光学素子のみ)の十字線がレチクルの直径にわたって刻印されています。厚さ1.5 mmのUV溶融石英基板の片面にはクロムめっきが施されており、また、200～1200 nmの波長範囲において90%以上の透過率を有しています。

Ø19.0 mmのレチクルは、取付けアダプタAD19TまたはSM1AD19に挿入することでØ25.4 mm(Ø1インチ)のマウントに取り付け可能です。 AD19Tにはネジ切り加工がないので、標準のØ25.4 mm(Ø1インチ)マウントに取り付け可能です。一方、SM1AD19にはSM1の外径ネジ切り加工があるので、SM1シリーズのネジ付きオプトメカニクス部品に適用できます。