グリッド型歪みテストターゲット

Test Targets Help Identify Distortion in Imaging Systems
Grid Spacings Available from 5 µm to 2000 µm
Combined Resolution and Distortion Targets Available

R1L3S5P

Combined Resolution and
Distortion Test Target

R1L3S3PR

Positive Reflective Grid
Distortion Target

R2L2S3P4

Fixed Frequency Grid
Distortion Target

R1L1S1N

Combined Resolution and
Distortion Test Target

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概要
グラフ
カスタム向け
クリーニング
Feedback

General Specifications
Substrate	Sode Lime Glass
Substrate Thickness	0.06" (1.5 mm)
Chrome Thickness	0.120 µm
Surface Flatness	≤15 µm

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テストターゲット用マウントXYF1(/M)に取り付けた分解能ならびに歪み測定一体型ターゲットR1L3S5P

特長

固定周波数ならびにマルチ周波数用のグリッド型歪みターゲット
コントラストの高い反射型のポジターゲットもご用意
分解能ならびに歪み測定一体型ターゲット
グリッドの歪みから画像を修正
5 µm～2000 µmのグリッド間隔に対応

当社では、豊富な種類の分解能測定や校正用のパターンに加え、単一周波数グリッドや、マルチ周波数グリッド、歪検出グリッド、などのターゲットといった光学システムの歪み測定用に様々な製品を取り揃えています。5 µm～2000 µmのグリッド間隔に対応可能です。

ポジパターンのテストターゲットは、ソーダライムガラス基板に真空スパッタリングにより低反射クロムが形成されており、水平および垂直の線か、円の行と列のパターンがございます。当社では、マルチ周波数ポジターゲットの反射型製品や、18 mm x 18 mm分解能ならびに歪み測定一体型ターゲットのネガパターンもご用意しております。これらのテストターゲットのスペクトルデータについては「グラフ」タブをご覧ください。

それぞれのパターンはフォトリソグラフィにより加工されているため、エッジ部も約1 µmの精度で形成されています。行と列は直交するので、最適化された光学システムでは垂直に結像されます。歪んだ画像では線あるいは行や列は弓形になります。この画像をLabVIEWやImageJなどのプログラムが組み込まれたソフトウェアと共に使用することで、歪みの測定、補正ができます。

取り付け
この歪テストターゲットは、当社の4種類ある顕微鏡用スライドホルダのいずれかに取り付けることができます。固定式スライドホルダMAX3SLHには、光学素子を取り付けるための2つのバネクリップが付いており、当社のすべての3軸フレクシャーステージに取り付けることができます。このスライドホルダは、幅50.8 mm以上のテストターゲットにのみ対応しており、開口部は25.4 mmです。よってテストターゲットの中には、クロムパターンが隠れてしまう種類もございます。また、テストターゲット位置決めマウントXYF1/M(右の写真参照)は、幅25.4 mm～76.2 mmの長方形ターゲットを50 mm x 30 mmの範囲で移動させることが可能です。マウントには、5つのM4タップ穴が付いており、6種類の取付方法が可能です。XYF1/Mは、先端がナイロン製の止めネジ(セットスクリュ)を使用してテストターゲットを固定します。なお、マウントのサポート部により、光学素子の両側4.4 mmが隠れます。顕微鏡用ステージMLS203をお使いいただいている場合は、倒立顕微鏡用スライドホルダMLS203P2のご使用をお勧めいたします。こちらは、幅25 mm～26.5 mmのスライド、ならびに直径30 mm～60 mmのペトリ皿を取り付けることができます。

Targets Selection Guide
Resolution Test Targets	Calibration Targets	Distortion Test Targets	Slant Edge MTF Target	Stage Micrometers

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ソーダライムガラスの透過率

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反射型テストターゲットのスペクトル曲線
可視域におけるクロム(青線)と、低反射クロム(赤線)の大きな差は、反射型のポジターゲットのパターンと背景のコントラストが高いことを意味しています。

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お気軽に当社まで
ご連絡ください。

Customization Parameters
Substrate Size^a	Min	8 mm x 8 mm (5/16" x 5/16")
Substrate Size^a	Max	85 mm x 85 mm (3.35" x 3.35")
Substrate Materials		Soda Lime Glass UV Fused Silica Quartz
Coating Material		Chrome^b Low-Reflectivity Chrome^c
Coating Optical Density		≥3^d or ≥6^e @ 430 nm
Minimum Pinhole/Spot		Ø1 µm
Minimum Line Width		1 µm
Line Width Tolerance		-0.25 / +0.50 µm
Maximum Line Density		500 lp/mm

基板はご要望のサイズや形状にダイシングが可能です(上記MIN～MAXの範囲内)。
430 nmでのクロムの反射率 > 40%
430 nmでの低反射クロムの反射率 < 10%
UV溶融石英(UVFS)基板と標準的なソーダ石灰ガラス基板の光学濃度(OD)は430 nmで3以上
石英基板と一部のソーダ石灰ガラス基板の光学濃度(OD)は430 nmで6以上

カスタムおよび組み込み用途(OEM用途)向けテストターゲットとレチクル

当社のフォトリソグラフィ設計と製造能力により、様々なパターン素子を作ることが可能です。米国サウスカロライナ州コロンビアにある当社の施設では、テストターゲット、グリッド型歪テストターゲット、レチクルを製造しております。これらは顕微鏡、イメージングシステム、光学アライメントのセットアップなど様々な用途に適用されてきました。

標準品のテストターゲットやレチクルに加え、ソーダ石灰基板、UV溶融石英(UVFS)基板、石英基板から8 mm x 8 mm～85 mm x 85 mmまでのカスタムクロムパターンのテストターゲット等をご提供可能です。基板はご用途に応じた形状に切断可能です。フォトリソグラフィによるコーティングプロセスにより、1 µmまでのクロムパターンが可能です。下ではサンプルパターンがご覧いただけます。またこの下の例のようにポジパターンとネガパターンで作成可能です。

カスタム仕様のテストターゲットやレチクルのお見積りについては、当社までお問い合わせください。

サンプルパターン

用途例

エッチングレチクル
グレースケールマスク
高分解能レチクル
測定用レチクル
レクリエーション用スコープ
ノッチ付きレチクル
アイピース目盛
照明用十字レチクル
オブストラクションターゲット
双眼鏡レチクル

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ポジパターンとネガパターンの十字ターゲット

こちらでは当社のエンジニアが推奨するレチクル、テストターゲット、歪みターゲット、校正ターゲットの適切なクリーニング方法をご紹介いたします。

クリーニング手順

できればポリビニルアルコール(PVA)製の清潔な濡れスポンジを使用し、食器用洗剤でレチクルやターゲットの正面と裏面を優しくこすります。
水ですすぎます。
清潔で乾燥した空気によるブローで乾かすか、清潔な面にレチクルやターゲットを置いて自然乾燥させます。

タオルや布、またはワイプを使用して拭くことはお勧めしません。汚れがまだ残る場合には、レチクルやターゲットを食器洗剤を混ぜた水溶液に1時間付け置き、必要であればこれを繰り返します。

Posted Comments:

Brian Matcheski (posted 2024-11-28 09:17:19.97)

Hello, Are these slides traceable to a standard. i.e what certifications are available? thanks

cdolbashian (posted 2024-12-10 01:29:26.0)

Thank you for reaching out to us with this request. We can indeed provide self-certification, verifying that the critical dimensions of the target fall within the values which we consider "within spec". In the case of the R1L3S3P, the centering tolerance will be +/-250nm and the dimensional tolerance will be +/-500nm for any given element on the target. I have reached out to you in order to discuss how we can facilitate your acquisition of this information.

Preston Chang (posted 2024-08-12 15:55:33.09)

Hi Sir, Could you provide a calibration report on R1L3S3P?

cdolbashian (posted 2024-08-14 11:48:50.0)

Thank you for reaching out to us with this request. We can provide a certificate of conformance, ensuring that the target meets our dimensional specifications. I have contacted you directly to help you acquire such information.

Marc Van Zadel (posted 2022-11-21 09:37:07.017)

Hello @ Thorlabs, it would be an improvement if there was an alignment line from one center grid to the center of the others. That, or have all the grids aligned on the top. Now it's hard at 64x or 100x to find the smaller grids without zooming out to 10x or 20x or so.

cdolbashian (posted 2022-11-22 03:52:00.0)

Thank you for the suggestion! I have reached out to you to discuss this as a potential custom, as well as requesting such a product internally to be available for future customers.

Tsong Lai (posted 2021-07-05 16:12:35.863)

Hi ThorLabs We want to purchase the R1L3S3P. If we place the order , how many days we can receive it if ship to Taiwan ? Regards Tsong

YLohia (posted 2021-07-07 02:58:48.0)

Hello, thank you for contacting Thorlabs. Questions about shipping are answered by our Sales team (sales@thorlabs.com) / your local Thorlabs distributor. The amount of time depends on the shipping speed chosen at the time of your order.

Konstantin Novoselov (posted 2019-11-26 14:17:27.287)

We need to produce optical calibration target to estimate/correct optical distortion in our instrument. This calibration target is similar your Grid Distortion Test Targets. In our case calibration pattern should be formed on the top of microscopic slide 25x50 mm 1.1 mm thickness. Calibration pattern consist of Ø150 µm dots arranged in a grid with spacing 200 µm. Desired spacing and dot size tolerance is about 2-3 µm. Expected order quantity is 1-10 during prototyping stage and 100-1000 in production stage. Can you please provide me with ballpark estimation of the manufacturing costs and lead times.

llamb (posted 2019-12-03 10:59:48.0)

Thank you for contacting Thorlabs. For custom quotes, you may contact us at TechSupport@thorlabs.com by clicking the Request A Quote button above. I have reached out to you directly to discuss this particular case.

dave.stubblefield (posted 2017-02-23 07:04:15.327)

Do you have any distortion targets that are designed for the IR spectrum? 3-5 micron and 8-12 micron. Maybe with a different substrate? Most transmission curves that I can find for soda lime glass do not extend into the IR region.

tfrisch (posted 2017-03-13 03:44:30.0)

Hello, thank you for contacting Thorlabs. I will reach out to you directly about our custom capabilities for etching distortion targets.

固定周波数グリッド型歪みターゲット、38.1 mm x 38.1 mm

ズーム

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カスタム仕様のイメージングシステム用フィルターマウントFFM1、およびキューブベースB3C(/M)を用いてポストに取り付けたターゲットR2L2S3P3

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ターゲットR2L2S3P4のドットパターン拡大図

38.1 mm x 38.1 mmのソーダライムガラス基板上に1種類グリッドアレイ
50 µm、125 µm、250 µm、500 µm、1000 µmのグリッド間隔
Ø25 µm、Ø62.5 µm、Ø125 µm、Ø250 µm、Ø500 µmのドットサイズ
マシンビジョンにおけるステージの校正や歪み検出の用途に使用

この歪み検出グリッドアレイには、ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきを蒸着して作られたドットがグリッド状に配置されています。 1つのドットの中心からそれに隣接するドットの中心までのグリッド間隔50 µm～1000 µm、ドット直径25 µm～500 µmをご用意しております。

グリッドアレイは、イメージングシステムの歪みを確認するために使用します。ドットの水平、および垂直の行と列が互いに直交しているのが理想的な状態です。歪んだ画像のラインは弓形となります。この画像は歪みを補正するために使用されます。

Item #	Spacing^a	Spacing Tolerance	Dot Size	Dot Size Tolerance	Pattern	Background	Pattern Size^b	Pattern Size Tolerance	Pattern Optical Density	Substrate Size
R2L2S3P5	50 µm	±1 µm	Ø25 µm	±2 µm	Low-Reflectivity Chrome	Clear	25.0 mm x 25.0 mm (0.98" x 0.98")	±4 µm	≥3.0 at 430 nm	1.50" x 1.50" x 0.06" (38.1 mm x 38.1 mm x 1.5 mm)
R2L2S3P1	125 µm		Ø62.5 µm
R2L2S3P2	250 µm		Ø125 µm
R2L2S3P3	500 µm		Ø250 µm				25.4 mm x 25.4 mm (1.00" x 1.00")
R2L2S3P4	1000 µm		Ø500 µm				25.4 mm x 25.4 mm (1.00" x 1.00")

1つのドットの中心からそれに隣接するドットの中心までの距離
グリッドアレイの隅から隅までの距離

マルチ周波数グリッド型歪みターゲット、76.2 mm x 25.4 mm

ズーム

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R1L3S3Pの4種類のグリッドパターンの拡大図

Optical Specifications
Item #	R1L3S3P1	R1L3S3P	R1L3S3PR
Pattern	LR^a Chrome	LR^a Chrome	LR^a Chrome
Background	Clear	Clear	Chrome
Chrome Optical Density^a	≥3.0	≥3.0	-
Reflectance^b	-	-	LR^a Chrome: < 10% Chrome: > 40%

低反射(Low-Reflectivity)
430 nmにおける仕様値

76.2 mm x 25.4 mmのソーダライムガラススライド上に4つのグリッドアレイ
グリッド間隔: 5 µm、10 µm、50 µm、100 µm、500 µm
ステージの校正や歪み検出の顕微鏡法の用途に使用
標準的な顕微鏡スライドと同じ外寸
コントラストの高い反射型のポジターゲットもご用意

こちらのグリッド型歪みターゲットは、5 µm、10 µm、50 µm、100 µm、500 µmの4種類または5種類の間隔の水平と垂直のラインのアレイが特長となっております。このグリッドパターンでは、低反射クロムが真空スパッタリングにより76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mmのソーダライムガラス基板に蒸着されています。ガラス基板の寸法は標準的な顕微鏡スライドと同じです。

ポジターゲットR1L3S3P1とR1L3S3Pのソーダライムガラス基板の背景は透明で、フロントライトや一般的な用途向けです。反射型のポジターゲットR1L3S3PRは背景がクロムのためコントラストが高く、反射用途向きです。詳細は「グラフ」タブをご覧ください。

グリッドアレイは、イメージングシステムの歪みを確認するために使用します。グリッドの水平ラインと垂直ラインが直交しているのが適切な状態です。歪んだ画像のラインは弓状になります。この場合、画像は歪み補正のために使用できます。

単一周波数ロンキールーリングターゲット、76.2 mm x 25.4 mm

ズーム

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R1L3S14Nのロンキールーリングパターンの拡大図

Optical Specifications
Pattern	LR^a Chrome
Background	Clear
Chrome Optical Density^b	≥3.0

低反射
430 nmにおける仕様値

76.2 mm x 25.4 mmの矩形パターンロンキールーリングターゲット
0.5 lp/mm～350 lp/mmのパターンでご用意
65 mm x 17 mmの大きな有効エリア
光学システムの分解能、視野歪み、同焦点安定性を評価
ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムによるパターン形成
スライドホルダMLS203P2を使用して顕微鏡ステージMLS203に取り付け可能

当社では分解能が0.5 lp/mm～350 lp/mm(白と黒のラインペア)のロンキールーリングターゲットをご用意しております。縦格子と空白が等間隔に配置された矩形パターンは、76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mmのソーダライムガラス基板上に黒色の低反射クロムパターンを蒸着して製造されています。有効エリアが65 mm x 17 mmと大きいため、バックライトや高照度の用途に適しています。ガラス基板の寸法は標準的な顕微鏡スライドと同じです。ロンキールーリングは、光学システムの分解能、視野歪み、同焦点安定性の評価に適しています。

+1 数量資料 型番 - ユニバーサル規格 定価(税抜) 出荷予定日

R1L3S25N NEW!Customer Inspired! ロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、0.5 lp/mm

￥22,560

3 Weeks

R1L3S12N ロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、10 lp/mm

￥22,560

Today

R1L3S13N ロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、20 lp/mm

￥22,560

3 Weeks

R1L3S14N ロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、40 lp/mm

￥22,560

3 Weeks

R1L3S15N ロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、80 lp/mm

￥22,560

3 Weeks

R1L3S16N ロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、100 lp/mm

￥22,605

3 Weeks

R1L3S17N ロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、150 lp/mm

￥25,345

3 Weeks

R1L3S18N ロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、200 lp/mm

￥25,345

3 Weeks

R1L3S19N ロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、250 lp/mm

￥25,345

3 Weeks

R1L3S20N ロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、300 lp/mm

￥25,345

3 Weeks

R1L3S21N ロンキールーリングテストターゲット、76.2 mm x 25.4 mm、350 lp/mm

￥28,770

3 Weeks

同心円ならびに十字線グリッド型ターゲット、76.2 mm x 76.2 mm

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ターゲットR3L3S5P上の最小グリッドを拡大(ラベル付き、下表参照)

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ターゲットR3L3S5P全体のドットパターン拡大図

Optical Specifications
Pattern	LR^a Chrome
Background	Clear
Chrome Optical Density^b	≥3.0

低反射(Low-Reflectivity)
430 nmにおける仕様

グリッド内に同心円と十字線を配置
それぞれサイズの異なる4つの同心円と5つの十字線
イメージングシステムの分解能と歪みを測定
76.2 mm x 76.2 mmのソーダライムガラス基板

この76.2 mm x 76.2 mmの同心円ならびに十字線付きグリッド型ターゲットは、289の小さなグリッドで構成され、全体では17行 x 17列、50.8 mm x 50.8 mmの大きさのグリッドを形成しています。 1つ1つの小さなグリッドには、サイズの異なる4つの同心円と5つの十字線が配置されています。右の写真では、この小さなグリッド内の同心円と十字線のパターンにラベルが付いていますが、製品自体には付いていません。それぞれの同心円パターンは7種類の異なる半径を有し、それぞれの十字線は1重または2重で描かれています。パターンの寸法についての詳細は下の表をご覧ください。

ターゲット上のパターンは、厚さ1.5 mmのソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきを蒸着して作られており、430 nmにおける光学濃度は3以上となっています。黒で描かれたパターンと透明な基板は、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。

Concentric Circles
Circle Pattern^a	R₁	R₂	R₃	R₄	R₅	R₆	R₇
A1	31.3 µm	62.5 µm	125 µm	140.6 µm	234.4 µm	242.2 µm	500 µm
A2	15.6 µm	31.3 µm	62.5 µm	70.3 µm	117.2 µm	121.1 µm	250 µm
A3	7.8 µm	15.6 µm	31.3 µm	35.2 µm	58.6 µm	60.5 µm	125 µm
A4	3.9 µm	7.8 µm	15.6 µm	17.6 µm	29.3 µm	30.3 µm	62.5 µm

右上の写真に表示

Crosshairs
Crosshair Pattern^a	Single or Double Line	Length/Width	Line Width^b
B1	Double	500 µm	6.25 µm
B2	Double	500 µm	12.5 µm
B3	Single	500 µm	50 µm
B4	Double	500 µm	25 µm
B5	Double	500 µm	100 µm

右上の写真に表示
線幅と線間隔は同じです。

分解能ならびに歪み測定一体型ターゲット、18 mm x 18 mm

ズーム

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ネガテストターゲットR1S1L1Nの顕微鏡画像

Optical Specifications
Item #	R1L1S1P	R1L1S1N
Pattern	LR^a Chrome	Clear
Background	Clear	LR^a Chrome
Chrome Optical Density^b	≥3.0

低反射(Low-Reflectivity)
430 nmにおける仕様

光学システムの分解能(解像度)を測定
画像の歪み、非点収差ほかの収差を測定
18 mm x 18 mm、厚さ1.5 mmのソーダライムガラス基板
USAF 1951パターン、セクタースター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリング付き
ポジまたはネガパターンでご用意

当社の18 mm x 18 mm x 1.5 mmの分解能と歪み測定が一体型になったポジまたはネガテストターゲットは、ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきが施されており、光学濃度(OD)は430 nmで3以上となっております。イメージングシステムや顕微鏡システムの校正用途に適しています。

テストターゲットにはUSAF 1951パターン(グループ2～7)、セクタースター、同心円、グリッド(100 µm、50 µm、10 µm)、そしてロンキールーリング(30～150 lp/mm)が描かれています。分解能、視野歪み、焦点誤差、ならびに非点収差のテストに便利です。 USAF 1951ターゲットは、イメージングシステムの分解能の測定にお使いいただけます。グリッドは画像の歪み測定、そして同心円はイメージングシステムの焦点誤差、非点収差ほか収差の特定にご使用になれます。ロンキールーリングは、分解能、視野歪み、ならびに同焦点安定性の評価に適しています。詳細については、分解能ターゲットのページをご参照ください。

こちらの分解能ターゲットはポジならびにネガパターンでご用意しております。ポジターゲットR1L1S1Pは、低反射のクロムパターンが透明な基板にめっき加工されており、フロントライトや一般的な用途にお使いいただけます。また、ネガターゲットR1L1S1Nの基板にも同様の低反射クロムコーティングが施されており、パターンは透明です。こちらはバックライトや高照度の用途に適しています。

Target Feature	Details	Target Feature	Details
1951 USAF Target	Groups 2 - 7	Concentric Circles	10 Circles with Radii from 100 µm to 1000 µm in 100 µm Intervals, Labeled 1 to 10
Grids	20 x 20 Arrays with 100 µm, 50 µm, and 10 µm Pitch	Ronchi Rulings	13 Rulings from 30 lp/mm^a to 150 lp/mm in 10 lp/mm Intervals
Sector Star	36 Bars through 360°, 10 µm Radius Center Circle, and Ten Concentric Circles with Radii from 50 µm to 500 µm in 50 µm Intervals

1ミリメートル毎のラインペア数です。

分解能ならびに歪み測定一体型ターゲット、76.2 mm x 25.4 mm

ズーム

Frequencies of NBS 1963A (cycles/mm)

• 4.5	• 10.0	• 23.0	• 57.0	• 128
• 5.0	• 11.0	• 25.0	• 64.0	• 144
• 5.6	• 12.5	• 29.0	• 72.0	• 161
• 6.3	• 14.0	• 32.0	• 81.0	• 181
• 7.1	• 16.0	• 36.0	• 91.0	• 203
• 8.0	• 18.0	• 40.0	• 102	• 228
• 9.0	• 20.0	• 51.0	• 114

Optical Specifications
Pattern	LR^a Chrome
Background	Clear
Chrome Optical Density^b	≥3.0

低反射(Low-Reflectivity)
430 nmにおける仕様

76.2 mm x 25.4 mmのソーダライム基板
NBS 1963Aパターン、セクタースター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリング、ほか付き(下表参照)
光学システムの分解能(解像度)を測定
画像の歪み、非点収差ほかの収差を測定
スライドホルダMLS203P2を使用して顕微鏡ステージMLS203に取付け可能

当社の76.2 mm x 25.4 mm x 1.5 mmの分解能と歪み測定が一体型になったポジテストターゲットは、ソーダライムガラス基板上に真空スパッタリングされた低反射クロムめっきが施されており、光学濃度(OD)は430 nmで3以上となっております。イメージングシステムや顕微鏡システムの校正用途に適しています。当社のスライドホルダMLS203P2に取り付けて、顕微鏡ステージMLS203で使用できる寸法設計となっております。

テストターゲットにはNBS 1963Aパターン、セクター(Siemens)スター、同心円、グリッド、ならびにロンキールーリングほかが描かれています(下の表をご覧ください)。分解能、視野歪み、焦点誤差、ならびに非点収差のテストに便利です。 NBS 1963A、セクタースター、ならびに同心円はイメージングの分解能を測定するのにご使用になれます。グリッドは、イメージングシステムによる歪みを測定できます。ロンキールーリングは、分解能、視野歪み、ならびに同焦点安定性の評価に適しています。詳細については、分解能テストターゲットのページをご参照ください。

Target Feature	Details	Target Feature	Details
NBS 1963A	Frequencies from 4.5 cycles/mm to 228 cycles/mm (See List Above)	Concentric Circles	10 Circles with Radii from 100 µm to 1000 µm in 100 µm Intervals
Distortion Grid (Squares)	3 Grids: 100 lp/mm^a, 150 lp/mm, 200 lp/mm	Fixed Ronchi Rulings	3 Rulings:100 lp/mm, 150 lp/mm, and 200 lp/mm
Distortion Grid (Dots)	3 Grids: 400 µm Pitch of Ø80 µm Dots, 200 µm Pitch of Ø 40 µm Dots, 100 µm Pitch of Ø20 µm Dots	Variable Ronchi Rulings	20 Rulings (Each 1 mm x 1 mm): 10 lp/mm to 200 lp/mm in 10 lp/mm Intervals
Two-Point Resolution Dots	Ø25 µm, Ø20 µm, Ø15 µm, Ø12.5 µm, Ø10 µm, Ø7.5 µm, and Ø5 µm	Pinholes	Ø25 µm, Ø20 µm, Ø15 µm, Ø12.5 µm, Ø10 µm, Ø7.5 µm, and Ø5 µm
Interdigitated Lines	6.25 lp/mm, 12.5 lp/mm, 25 lp/mm, 50 lp/mm, 100 lp/mm, and 200 lp/mm	Micrometers	3 Rulers: 10 mm Scale with 50 µm Divs, 1 mm Scale with 10 µm Divs, and 1mm x 1 mm XY Scale with 50 µm Divs
Sector Star	36 Bars through 360°, 50 µm Radius Center Circle, and Ten Concentric Circles with Radii from 100 µm to 500 µm in 50 µm Intervals

lp/mmは、1ミリメートル毎のラインペア数です。